鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。該半導電輥的目的在于通過良好地平衡表面層和基層的電阻值而獲得良好的靜電充電特性。簡單說的話，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時，會產生不同的殺傷破壞效應。

各種類型的濺射薄膜材料在半導體集成電路(VLSI)、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等方面都得到了廣泛的應用。20世紀90年代以來，濺射靶材及濺射技術的同步發展，極大地滿足了各種新型電子元器件發展的需求。

平面顯示器（FPD)這些年來大幅沖擊以陰極射線管(CRT)為主的電腦顯示器及電視機市場，亦將帶動ITO靶材的技術與市場需求。如今的iTO靶材有兩種．一種是采用納米狀態的氧化銦混合后燒結，一種是采用銦錫合金靶材。應用于顯示屏的阻擋層或調色層，筆記本電腦的裝飾層、電池的封裝等。銦錫臺金靶材可以采用直流反應濺射制造ITO薄膜，但是靶表面會氧化而影響濺射率，并且不易得到大尺寸的臺金靶材。如今一般采取方法生產ITO靶材，利用L}IRF反應濺射鍍膜．它具有沉積速度快．且能控制膜厚，電導率高，薄膜的一致性好，與基板的附著力強等優點。

在深加工產品這一領域，如何來提升產品的技術含量和檔次，納米技術、納米材料的科學研究，實踐應用是這個產業向產業化發展的方向，成為當代關注和競爭的主要課題。

納米、（nm）納米技術、納米材料是當代科技領域中的熱門名詞，已經成為現實和潛在的巨大的應用前景的納米銀線，已在山東、浙江、北京等地進入人們的視野，并進入國際市場，如果按照銀的當前價7元/克計算的話，納米銀線的價格將是銀價的350倍以上。

鎢-鈦靶材作為光伏電池鍍膜材料是近發展起來的，它作為第三代太陽能電池的阻擋層是佳選擇。

由于 W-Ti 系列薄膜具有非常優良的性能，近幾年來應用量急劇增加，2008年W-Ti 靶材世界用量已達到400t，隨著光伏產業的發展，這種靶材的需求量會越來越大。具行業預測其用量還會有很大的增加。制備化合物半導體的金屬如銦、磷，可利用氯化物精餾氫還原、電解精煉、區熔及拉晶提純等方法制備超純金屬，總金屬雜質含量為0。國際太陽能電池市場以的速度增長，目前世界有30 多公司參與太陽能市場的進一步開發， 并已有的公司產品投入市場。